Tesis

En el presente trabajo, que fue desarrollado en el departamento de Física del Centro Atómico Constituyentes [CAC] en conjunto con la División Semiconductores de CITEFA; se micromaquinó un sustrato de silicio para ser aplicado a sensores de gas tipo MEMS [MicroElectroMechanical Systems] utilizando un dispositivo dise¤ado para tal fin. El micromaquinado posibilita un enorme ahorro en la energía durante la operación de los sensores, al optimizar, el flujo de calor para el funcionamiento de la película sensora. También el trabajo consistió en el dise¤o y realización de los microcalefactores que permiten calefaccionar la película sensora hasta la temperatura de operación [trabajo]. Las técnicas utilizadas fueron: la fotolitografía para la realización del calefactor y la apertura de las ventanas que posibilitan a su vez la técnica del grabado h£medo anisotrópico en el micromaquinado.Si bien los resultados tanto de la parte de micromaquinación del silicio como de la realización de los calefactores fueron satisfactorios se espera mejorarlos en lo que hace a la repetitibidad y definición de las estructuras y líneas.