Ion implantation, sputtering and their applications /

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Townsend, P. D. (Peter David)
Other Authors: Kelly, J. C. (John Clive), Hartley, N. E. W.
Format: Book
Language:English
Published: London ; New York : Academic Press, 1976.
Subjects:
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!

MARC

LEADER 00000cam a2200000 i 4500
001 4110121
003 AR-SmCIES
005 20190104130412.0
008 760810s1976 enka rb 001 0 eng d
999 |c 32217  |d 32217 
080 |a 539.188 
100 1 |a Townsend, P. D.  |q (Peter David)  |9 1742 
245 1 0 |a Ion implantation, sputtering and their applications /  |c by P. D. Townsend, J. C. Kelly, N. E. W. Hartley. 
260 |a London ;  |a New York :  |b Academic Press,  |c 1976. 
300 |a ix, 333 p. :  |b il. ;  |c 24 cm. 
504 |a Bibliografía al final de cada capítulo. 
650 7 |a ION IMPLANTATION  |2 inist  |9 1743 
650 7 |a IMPLANTACION DE IONES  |2 inist  |9 1744 
650 7 |a CHISPORROTEO  |2 inist  |9 1745 
650 7 |a SPUTTERING  |2 inist  |9 1746 
700 1 |a Kelly, J. C.  |q (John Clive),  |9 1747 
700 1 |a Hartley, N. E. W.,  |9 1748 
942 |2 udc  |c BK 
952 |0 0  |1 0  |2 ddc  |4 0  |7 0  |a CIES-CAC  |b CIES-CAC  |d 2019-01-04  |i 24264  |o 539.188 T667  |p 24264  |r 2019-01-04 00:00:00  |w 2019-01-04  |y BK