The Atomic Layer Deposition Technique for the Fabrication of Memristive Devices: Impact of the Precursor on Pre-deposited Stack Materials

Fil: Quinteros, Cynthia Paula. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Quinteros, Cynthia Paula, Hardtdegen, Alex, Barella, Mariano, Golmar, Federico, Palumbo, Félix Roberto Mario, Curiale, Carlos Javier, Hoffmann Eifert, Susanne, Levy, Pablo Eduardo
Published: IntechOpen 2018
Online Access:https://nuclea.cnea.gob.ar/handle/20.500.12553/8654
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
_version_ 1866906971600322560
author Quinteros, Cynthia Paula
Hardtdegen, Alex
Barella, Mariano
Golmar, Federico
Palumbo, Félix Roberto Mario
Curiale, Carlos Javier
Hoffmann Eifert, Susanne
Levy, Pablo Eduardo
author_browse Barella, Mariano
Curiale, Carlos Javier
Golmar, Federico
Hardtdegen, Alex
Hoffmann Eifert, Susanne
Levy, Pablo Eduardo
Palumbo, Félix Roberto Mario
Quinteros, Cynthia Paula
author_facet Quinteros, Cynthia Paula
Hardtdegen, Alex
Barella, Mariano
Golmar, Federico
Palumbo, Félix Roberto Mario
Curiale, Carlos Javier
Hoffmann Eifert, Susanne
Levy, Pablo Eduardo
author_sort Quinteros, Cynthia Paula
collection DSpace
description Fil: Quinteros, Cynthia Paula. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina
id dspace-20.500.12553-8654
institution Repositorio Institucional NUCLEA
publishDate 2018
publishDateSort 2018
publisher IntechOpen
publisherStr IntechOpen
record_format dspace
spelling dspace-20.500.12553-86542025-12-11T23:32:30Z The Atomic Layer Deposition Technique for the Fabrication of Memristive Devices: Impact of the Precursor on Pre-deposited Stack Materials Quinteros, Cynthia Paula Hardtdegen, Alex Barella, Mariano Golmar, Federico Palumbo, Félix Roberto Mario Curiale, Carlos Javier Hoffmann Eifert, Susanne Levy, Pablo Eduardo Fil: Quinteros, Cynthia Paula. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina Fil: Hardtdegen, Alex. University of Groningen; Países Bajos Fil: Barella, Mariano. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Parque Centenario. Centro de Investigaciones en Bionanociencias "Elizabeth Jares Erijman"; Argentina Fil: Golmar, Federico. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina. Universidad Nacional de San Martín; Argentina Fil: Palumbo, Félix Roberto Mario. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas; Argentina Fil: Curiale, Carlos Javier. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología - Nodo Bariloche | Comisión Nacional de Energía Atómica. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología - Nodo Bariloche; Argentina Fil: Hoffmann Eifert, Susanne. University of Groningen; Países Bajos Fil: Levy, Pablo Eduardo. Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Oficina de Coordinación Administrativa Ciudad Universitaria. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología - Nodo Constituyentes | Comisión Nacional de Energía Atómica. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología. Unidad Ejecutora Instituto de Nanociencia y Nanotecnología - Nodo Constituyentes; Argentina IntechOpen 2018 info:eu-repo/semantics/closedAccess https://nuclea.cnea.gob.ar/handle/20.500.12553/8654
spellingShingle Quinteros, Cynthia Paula
Hardtdegen, Alex
Barella, Mariano
Golmar, Federico
Palumbo, Félix Roberto Mario
Curiale, Carlos Javier
Hoffmann Eifert, Susanne
Levy, Pablo Eduardo
The Atomic Layer Deposition Technique for the Fabrication of Memristive Devices: Impact of the Precursor on Pre-deposited Stack Materials
title The Atomic Layer Deposition Technique for the Fabrication of Memristive Devices: Impact of the Precursor on Pre-deposited Stack Materials
title_full The Atomic Layer Deposition Technique for the Fabrication of Memristive Devices: Impact of the Precursor on Pre-deposited Stack Materials
title_fullStr The Atomic Layer Deposition Technique for the Fabrication of Memristive Devices: Impact of the Precursor on Pre-deposited Stack Materials
title_full_unstemmed The Atomic Layer Deposition Technique for the Fabrication of Memristive Devices: Impact of the Precursor on Pre-deposited Stack Materials
title_short The Atomic Layer Deposition Technique for the Fabrication of Memristive Devices: Impact of the Precursor on Pre-deposited Stack Materials
title_sort atomic layer deposition technique for the fabrication of memristive devices impact of the precursor on pre deposited stack materials
url https://nuclea.cnea.gob.ar/handle/20.500.12553/8654
work_keys_str_mv AT quinteroscynthiapaula theatomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT hardtdegenalex theatomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT barellamariano theatomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT golmarfederico theatomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT palumbofelixrobertomario theatomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT curialecarlosjavier theatomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT hoffmanneifertsusanne theatomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT levypabloeduardo theatomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT quinteroscynthiapaula atomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT hardtdegenalex atomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT barellamariano atomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT golmarfederico atomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT palumbofelixrobertomario atomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT curialecarlosjavier atomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT hoffmanneifertsusanne atomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials
AT levypabloeduardo atomiclayerdepositiontechniqueforthefabricationofmemristivedevicesimpactoftheprecursoronpredepositedstackmaterials