Tesis

El presente trabajo tiene por objeto contribuir al mejor conocimiento de los métodos de mejora de adherencia basados en nitruración previa del substrato y en la deposición de una intercapa de titanio entre el substrato y el recubrimiento, para el caso de recubrimientos de TiN producidos por plasma CVD (Chemical Vapor Deposition). A tal efecto se utilizó un reactor de plasma CVD para producir tanto los recubrimientos de TiN como los correspondientes pretratamientos del substrato. Las experiencias se realizaron utilizando substratos planos de acero rápido simil AISI M2. En el caso del proceso duplex, se analizó en detalle el efecto de la duración del proceso de nitruración sobre la adherencia del recubrimiento. En el caso de la deposición de una intercapa de titanio, se estudió el efecto del espesor de la intercapa sobre la adherencia del recubrimiento de TiN. En ambos casos, se analizaron los mecanismos responsables de la mejora de la adherencia y las condiciones óptimas para aplicación de los métodos etudiados.